Hona joale, mekhoa ea ho lokisetsa eaHo roala ha SiChaholo-holo e kenyelletsa mokhoa oa gel-sol, mokhoa oa ho kenya, mokhoa oa ho roala borashe, mokhoa oa ho fafatsa ka plasma, mokhoa oa ho arabela ka khase ea lik'hemik'hale (CVR) le mokhoa oa ho beha mouoane oa lik'hemik'hale (CVD).
Mokhoa oa ho kenya:
Mokhoa ona ke mofuta oa mocheso o phahameng o tiileng oa mohato oa sintering, oo haholo-holo o sebelisang motsoako oa Si phofo le phofo ea C e le phofo ea embedding, matrix ea graphite e behoa ka phofo ea embedding, 'me mocheso o phahameng oa sintering o etsoa ka khase ea inert. , 'me qetellong eaHo roala ha SiCe fumanoa ka holim'a matrix a graphite.Mokhoa ona o bonolo 'me motsoako o pakeng tsa ho roala le substrate o motle, empa ho tšoana ha seaparo ho latela tataiso ea botenya ho futsanehile, ho leng bonolo ho hlahisa likoti tse ngata le ho lebisa ho hanyetsa oxidation e futsanehileng.
Mokhoa oa ho roala brush:
Mokhoa oa ho roala borashe ke haholo-holo ho brusha lisebelisoa tse tala tsa mokelikeli holim'a matrix a graphite, ebe o phekola thepa e tala ka mocheso o itseng ho lokisa seaparo.Ts'ebetso e bonolo 'me litšenyehelo li tlase, empa ho roala ho lokiselitsoeng ka mokhoa oa ho roala borashe hoa fokola hammoho le substrate, ho tšoana ha seaparo ho fokola, ho roala hoa fokola,' me khanyetso ea oxidation e tlaase, 'me mekhoa e meng e hlokahala ho thusa. eona.
Mokhoa oa ho fafatsa ka plasma:
Mokhoa oa ho fafatsa ka plasma ke haholo-holo ho fafatsa thepa e tala e qhibilihisitsoeng kapa e qhibilihisitsoeng ka holim'a matrix a graphite ka sethunya sa plasma, ebe o tiisa le ho tlama ho etsa seaparo.Mokhoa ona o bonolo ho sebetsa 'me o ka lokisa lesela le batlang le le teteaneng la silicon carbide, empa lesela la silicon carbide le lokiselitsoeng ke mokhoa hangata le fokola haholo' me le lebisa ho ho hanyetsa ha oxidation, kahoo hangata le sebelisoa bakeng sa ho lokisoa ha motsoako oa SiC ho ntlafatsa. boleng ba ho roala.
Mokhoa oa gel-sol:
Mokhoa oa gel-sol haholo-holo ke oa ho lokisa tharollo e tšoanang le e pepeneneng e koahelang bokaholimo ba matrix, e omisa ka gel ebe o sintering ho fumana sekoaelo.Mokhoa ona o bonolo ho sebetsa ebile o theko e tlaase, empa ho roala ho hlahisoa ho na le mefokolo e itseng e kang ho hanyetsa mocheso o tlaase oa mocheso le ho phunyeha habonolo, kahoo e ke ke ea sebelisoa haholo.
Phekolo ea Khase ea Lik'hemik'hale (CVR) :
CVR e hlahisa haholoHo roala ha SiCka ho sebelisa Si le SiO2 phofo ho hlahisa mouoane oa SiO ka mocheso o phahameng, 'me letoto la lik'hemik'hale tsa lik'hemik'hale li etsahala holim'a thepa ea C.TheHo roala ha SiCe lokiselitsoeng ke mokhoa ona e amana haufi-ufi le substrate, empa mocheso oa karabelo o phahame 'me litšenyehelo li phahame.
Kemiso ea Mouoane oa Lik'hemik'hale (CVD):
Hona joale, CVD ke theknoloji e ka sehloohong ea ho lokisetsaHo roala ha SiCka holim'a substrate.Ts'ebetso e ka sehloohong ke letoto la karabelo ea 'mele le ea lik'hemik'hale ea lintho tse sebetsanang le karolo ea khase holim'a substrate,' me qetellong ho roala ha SiC ho lokisoa ka ho beoa holim'a substrate.The SiC barbotage e lokisitsoeng ke CVD thekenoloji e haufi-ufi bonded holim'a substrate, e leng ka ka katleho ntlafatsa ho hanyetsa oxidation le ablative ho hanyetsa ea substrate lintho tse bonahalang, empa deposition nako ea mokhoa ona ke nako e telele, le khase karabelo na le chefo e itseng. khase.
Nako ea poso: Nov-06-2023